| 设备名称 | 3英寸迷你型等离子清洗机-PDC-36G （2019.11.26—科晶实验室审核） |
||||||||||||
| 产品提示 | |||||||||||||
| 相关视频 |
操作视频 |
||||||||||||
| 设备特点 | ·结构紧凑、小型化的桌上型仪器 ·用各种气体清洗和去除晶片上纳米级有机污染物。 ·在制膜实验之前预先清洁镀膜基底的优秀工具。清洗后镀膜的质量可以更好。 ·铰链式门，方便装样 ·石英腔的直径是3英寸，在里面可以放入一个石英舟，最大清洗一个2英寸的基片。 ·清洗腔里面的石英管可以拆卸，方便清洗和更换 ·使用可调射频电源，可以设置功率为低、中、高级别；低成本、操作安全。
|
||||||||||||
| 主要参数 | ·等离子直流电源：
·射频源输出频率：13.56MHz； ·输入电压：220V,50Hz； ·压力范围：1-1999TOrr； 更多参数请联系科晶销售部 |
||||||||||||
| 机体结构 | 等离子腔室：·直径75mmx长200mm的石英墙体，前盖可以开启。 ·高纯度石英腔体，使用寿命比玻璃长。 阀门：·1/8英寸针阀控制进气。 ·1/8英寸三通球阀控制气体进出。 真空计：设备标配一个电阻规和数显电阻真空计用于实时监测清洗仓内的真空度。
|
||||||||||||
| 工作气体 | ·多种气体可以用于等离子清洗，例如氮气、氩气、空气、混合气体，主要取决于处理何种材料。 ·可以使用<4％的H2混合惰性气体 |
||||||||||||
| 等离子清洗及刻蚀的方法 |
|
||||||||||||
| 工作原理 | |||||||||||||
| 外形尺寸 | ·353mm（L）x380mm（W）x225mm （H）
|
||||||||||||
| 净重 | （不含泵）8kg |
||||||||||||
| 质保期 | 一年保修，终身技术支持。 特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书 |
||||||||||||
| 认证 | ·此产品已通过CE认证 证书编号：M.2021.206.C67994 ·若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证
|
科晶应用技术实验室用此设备清洗基片，清除表面污染物，以供参考。
清洗前向基片上滴入0.05ml水滴，其结果如图所示。通入氩气清洗十分钟后，向基片上滴入0.05ml水滴，其结果如图所示。 | ||
石英 |
图1 清洗前 | 图2 清洗后 |
硅片 |
图3 清洗前 | 图4 清洗后 |
应用技术提示 | 1、使用时间不建议超过一小时。 2、如果清洗机腔室，不能立即充气，油会回流到腔室污染系统。真空泵需安装防回油装置。 3、为保护设备，设备工作后能立即关机，但关机后最好在10秒后再开机工作。 4、腔室需定期进行清洗。 |
警示 | 1、腔室内不能 通入正压。 2、真空状态下不要打开前级法兰，防止损坏玻璃室。 5、此设备不能使用可燃性、腐蚀性及有毒有害气体。 |
可选配件 | 1、您可以订购额外的石英腔体，用于备用。 |
2、如果需要一个通入两种气体的工艺解决方案，PDC-36G等离子清洗机可以与2路混气系统组合。
| |
3、您可以订购石英晶片载体来清洁2英寸晶片。
| |
4、您可选配双极旋片式真空泵进行抽真空。
|
查看诚信档案
皖公网安备 34012302000974号
