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微型原位可视化CVD/PVD炉（双温区）
- 关键字：
- 新品 CVD炉 PVD炉
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- GSL-1100微型原位可视化CVD/PVD炉（双温区）,又称为HPCVD。配备有25mm内径石英管并附带观察窗口。石英管内有两个加热板，用于盛放蒸发料与样品。此设备可以放置在光学显微镜或拉曼光谱下，用于原位观察二维薄膜生长，最高可达1100ºC。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 电源 |
1000W 220V/AC |
| 炉体结构 |
· 特制石英管：外径 30 x 内径 25 x 长370（mm）， 一个直径 12 mm 的扁平高透光率窗口焊接在管子上，用于原位观察薄膜生长 · 真空密封法兰：包括电极、热电偶、带 KF 25 真空端口的气体入口和出口的馈通件 · 微加热板：两个 W17 x L 25 mm 的陶瓷涂层加热板从两端插入加工管中。左侧加热板可调。 · 最高加热温度：1100℃，最大升温速率：5℃/S · 法兰支架高度可调
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| 温度控制 |
· 两个具有 30 段可编程的温度控制器，用于独立控制两个加热板 · 内置PID自动调谐功能 · 具有热电偶过热保护与损坏报警功能 · ±1℃温度精度 · 两个K型热电偶（每个区域一个）
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| 可选配件 |
· 耐腐蚀数字真空计 · 双级旋片真空泵 · 可选质量流量控制器（0-2L/min）
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| 尺寸 |
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| 保修 |
· 一年保修，提供提升时间支持（炉管和O形圈等耗材不在保修范围内） |
| 笔记本电脑，软件和WIFI控制（可选） |
· 可配备电脑进行控制 · 基于Labview的自研温度控制系统 （EQ-MTS01） 。使用户能够编辑，记录，储存温度曲线等数据
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| 认证 |
· CE认证 · UL,NRTL或CSA认证需额外收费
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