| 设备名称 | 1100℃等离子增强HPCVD回转炉系统—OTF-1200X-S-II-4CV-PE （2019.12.23—科晶实验室审核） |
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| 产品提示 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
| 产品特点 | ▪ 炉体可在0 ~ 30°内倾斜有利于粉末样品的装入和取出； ▪ 射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度； ▪ 齿轮驱动管式炉旋转可有效地提高复合粉末热处理的均匀性； ▪ 4通道质子流量计控制系统可以对气体的输送进行精确的调控； ▪ 集成在前端的带钨丝加热的坩埚舟可以对前驱体进行蒸发用于后续的混合物理化学气相沉积阶段。 |
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| 相关视频 |
操作视频 |
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| 加热炉参数 | ▪ 最高温度：1100ºC（<30min）；连续工作温度：< 1000℃； ▪ 两个PID温度控制器以及30段可编程温控系统，控温精度：±1℃； ▪ 输入功率：110V，单相，功率：1.5KW； ▪ 回转炉旋转速度：0-5 rpm； ▪ 炉体开启式设计，以达到对样品快速降温，方便更换炉管。
更多参数请联系科晶销售部 |
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| 蒸发舟参数 | ▪ 0.7mL氧化铝坩埚（由钨丝加热圈包围）； ▪ S型热电偶插入坩埚中实现对蒸发物料的精确测温； ▪ 最高温度可达1100℃，长期使用温度1000℃。
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| 射频电源 | ▪ 科晶公司现有不同功率的射频电源可供选择，以满足不同实验条件的需求。
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| 真空系统 | ▪ 采用TRP-12的双旋真空泵； ▪ KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵； ▪ 真空度可达10-2Torr。
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| 供气系统 | ▪ 四通道质子流量计控制系统可实现气体流量的精确控制（精确度：±0.02%）； ▪ 流量范围:
▪ 电压：208-240V， AC， 50/60Hz； ▪ 气体进出口配件：6mm OD的聚四氟管或不锈钢管； ▪ 不锈钢针阀用于手动控制气体进出； ▪ PLC触摸屏可以简便地进行气体流量设置。
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| 产品尺寸和重量 | ▪ 炉体尺寸：1400 mm L ´600mmW´1250mm H； ▪ 混气系统尺寸：600mmL´850mm W´700mm ▪ 净重：90kg ▪ 运输重量：136kg
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| 认证 | ▪ 如您另外付费，我们可以保证单台仪器的TUV(UL61010)或CSA 认证
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| 承诺 | ▪ 一年质保期，终身维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件） |
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| 国家专利 | 专利名称：一种等离子增强旋转炉装置 专利号：ZL 2019 2 1533393.7 尊重原创、鄙视抄袭、侵权必究。 |
科晶应用技术实验室利用PECVD在不同功率（75W、150W、300W）条件下沉积Sb2Se3薄膜，实验结果如下：
组别 | SEM结果 | 元素百分比 | ||
Sb (%) | Se(%) | |||
未经任何处理的样品 |
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| 40.01 | 59.99 |
等离子体处理 |
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| 41.04 | 58.96 |
等离子体处理 min |
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| 41.64 | 58.36 |
等离子体处理5 min |
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| 41.86 | 58.14 |
小结:
（1）等离子体能改变Sb2Se3薄膜的形貌，同时改变Sb2Se3的组成；
（2）随着射频电源功率的增加，Sb2Se3中的Se百分含量降低。
组别 | SEM结果 | 元素百分比 | ||
Sb (%) | Se(%) | |||
10W、条件下沉积Sb2Se3 |
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| 40.01 | 59.99 |
75W、条件下沉积Sb2Se3 |
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| 70.28 | 29.72 |
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| 43.13 | 56.87 | |
75W、且补充2粉末（10%质量比Sb2Se3）沉积Sb2Se3 |
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| Sn: 22.78 Sb: 25.77 | 51.44 |
小结:
（1）低功率等离子体条件下可得到近原子比的Sb2Se3；
（2）高压条件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜；
（3）添加Se会破坏PECVD沉积的Sb2Se3的原子比；
（4）当SnSe2质量比为10%时，可以得到Sb：Sn摩尔比接近于的薄膜，该方法适用于掺杂。
XRD结果
警示 | ▪ 炉管内气压不可高于0.02 MPa； ▪ 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa，使用时会更加精确安全； ▪ 石英管的长时间使用温度＜1100℃； ▪ 当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态； ▪ 射频电源工作时，请勿触碰。 |
应用技术提示 | ▪ 通入炉内气体流量需小于200 sccm，以避免冷的大气流对加热石英管造成冲击； ▪ 加热时，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02 MPa，需立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂、法兰飞出等）； ▪ 射频电源在低气压、低功率条件下起辉。 |
防腐型真空表 （可选） | ▪ 输入电源24V，1A DC（配有电压转换器）； ▪ 测量范围3.8´10-5-1125 Torr； ▪ 数据显示：数显（屏幕尺寸为20´14mm），其单位为torr ▪ 连接：1/8"NPT 接头 ▪ 产品尺寸 46mm×28mm×126mm ( L´W´ H)
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炉管 | ▪ 高纯异形石英管尺寸：两端：25 mm OD´22 mm ID；中间：50mm O.D´44mm I.D´190mm L
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密封法兰 | ▪ 一对不锈钢快接法兰（法兰上安装有KF25真空接头）； ▪ 磁流体密封旋转接头安装在两端，以保证旋转过程中进气管和其它附件的正常使用，避免卷绕。
配件法兰1 配件法兰2 配件法兰3 配件法兰4 | ||||||||||
进料/收料器 | ▪ EQ-PF-1S是一款容积式自动进料器，包含电动搅拌器及带有振动装置的不锈钢料斗，可实现固体粉料的自动化进料，从而实现固态粉料的连续式烧结/热处理； ▪ 2L不锈钢收集桶安装在右侧，可实现真空气氛保护环境下的粉料样品收集（标配中包含）   进料器 收料器 | ||||||||||
温仪表 （可选） | ▪ 单回路、双回路和三回路控制模式； ▪ 每个回路可实现双输入，双保护； ▪ 各回路可PID、串级、比率等回路控制； ▪ 数码显示，配备7个按键，可用于进行各控制回路的切换和参数修改； ▪ 最多可存储50个程序，每个程序最多可有3个不同的设定值（即3条不同的曲线），最多可设置500段升降温程序； ▪ 通讯方式多样，Modbus/Profibus DP/DeviceNet/EI-Bisync/RS485通讯接口，可连接PC进行远程控制。
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真空系统 （可选） | ▪ 科晶公司提供一系列低真空、高真空及进口高真空设备，以满足在不同真空条件下的实验需求。
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供气系统 （可选） | ▪ 科晶公司提供各种通道浮子、质子流量计可供选择，以实现气体流量的精确控制。
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