结果分析：从XRD图中可以看到，退火后Mo薄膜在40.6°、73.5°、87.3°分别出现了体心立方金属Mo(110)、(211)、(220)晶面衍射峰，说明钼呈现多晶相结构，且（110）衍射峰强度远远大于其他方向，说明Mo薄膜纯度较高，且出现明显的择优取生长。

第二组

实验思路：已成功在硅基底溅射钼薄膜，将基底更换为304电池壳（打磨抛光除去电池壳镀层，并依次使用酒精，去离子水超声清洗，70摄氏度真空烘干24h）

结果分析：从XRD图中可以看到，不锈钢表面出现Mo薄膜，且在40.5°、73.5°分别出现了体心立方金属Mo(110)、(211)晶面衍射峰，说明钼呈现多晶相结构。

第三组：

实验思路：已成功在电池壳镀膜并检测到有钼薄膜形成，同样条件在二级内部镀膜（镀膜前已使用酒精清洗，并使用无尘布擦拭干净后用热风枪风干）

  镀膜前                       镀膜后（10min）                   镀膜后（20min）

结果分析：镀膜时间增加，钼薄膜颜色略微加深，使用万用表检测，导通性良好。

第四组：膜性能测试

结果分析：使用3M胶带粘黏划破后的薄膜，发现破口附近无薄膜脱落，说明膜结合力良好。无水乙醇擦拭前后，钼薄膜无变化，说明膜表面致密性优良，附着力较强。

2、导电性测试：

实验思路：使用万用表对钼薄膜电阻值进行测试

结果分析：使用万用表检测两个元件内部镀钼部分电阻均为0。

结果分析2：打开二极测量装置，发现内部镀膜部分颜色加深，使用抹布擦拭，薄膜无明显脱落痕迹，说明镀膜在电解液作用下防腐效果优良。

参考文献：

[1] https://www.doc88.com/p-7843590246566.html《磁控溅射法制备钼薄膜的研究现状》

[2] https://pdf.hanspub.org/MS20180600000_37174912.pdf《两种钼靶材溅射钼薄膜的组织性能研究》

[3] http://www.xjishu.com/zhuanli/24/201910724611_3.html《钼圆PVD磁控溅射镀膜方法与流程》

特别声明：

1. 以上所有实验仅为初步探究，仅供参考。由于我们水平有限，错误疏漏之处欢迎指出，我们非常期待您的建议。

2. 欢迎您提出其他实验思路，我们来验证。

3. 以上实验案例及数据只针对科晶设备，不具有普遍性。

4. 因为涉及保密问题，以上数据仅为部分数据，欢迎老师与我们联系，我们非常期待和您共同探讨设备的应用技术。